BA310Met-H金相显微镜
面向工业应用领域的新型显微镜，具有优异的光学成像质量，可以从容应对品质管理，制造工序检查等观察需求。可以与用户的系统或使用需求灵活组合配套。应用领域：半导体检测、FPD、封装、电路基板、铸造、金属材料、精密模具等。
BA210Met金相显微镜
BA210Met是电子、金属材料、矿物、地质、精密工程等检查、分析及研究的必备仪器，适用于教学、科研、工业等领域。采用同轴垂直照明系统，很好的消除了杂散光，从而大大提高成像的对比度（衬度）和清晰度。
AE2000MET双目金相显微镜
全新AE2000Met 倒置金相显微镜，适用于教学、科研、工业等领域，是金属材料、矿物学、精密工程学、电子学等研究必备的仪器。
GX234 无限远光学系统倒置金相显微镜
GX234倒置金相显微镜采用优质的无限远光学系统，同时配备明暗场通用的长工作距离平场平场消色差物镜，多光路的系统设计，可同时支持双目镜筒观察和数码摄像装置观察。倒置金相显微镜可广泛应用于研究金属的显微组织，能在明场、暗场、偏光、微分干涉下进行观察和摄影，配备专用软件，更可同步进行测量分析。可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用。
GX231三目金相显微镜
无限远光学系统，提供了卓越的光学性能。可供观察和鉴别各种金属和合金的组织机构，其舒适稳重的镜体机构、高效方便的载物台设计、轻松快捷的操作方式,适合学校、工矿企业实验室长时间的轻松操作。
GX71研究级倒置金相显微镜
GX71奥林巴斯科研级倒置金相显微镜采用Zui新的万能无限远UIS 2光学系统， 提供Zui优秀犀利的成像质量， 无论明视场、 暗视场、微分干涉、偏光观察以及荧光观察都能够得到高分辨高反差的图像。视场数26.5mm提供同类机器里的Zui广视域。转盘式光路转换，操作简单便利。
GX41小型倒置金相显微镜
GX41是适合于生产线的小型化倒置金相显微镜，可以进行明视野、简易偏光观察。其机体轻巧紧凑，便于携带。
XTL-302BD明暗场正置金相显微镜
XTL-302BD正置金相显微镜适用于对不透明物体的显微观察。采用优良的无限远光学系统与模块化功能设计理念，可以方便升级系统，实现偏光观察、暗场观察等功能，紧凑稳定的高刚性主体，充分体现了显微操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计，使操作更方便舒适，空间更广阔。适用于金相组织及表面形态的显微观察，是金属学、矿物学、精密工程学研究的理想仪器。
XTL-2003A正置落射金相显微镜
XTL-2003系列正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。
10XB-PC无限远光学校正系统科研级金相显微镜
10XB-PC无限远光学校正系统科研级金相显微镜，三目镜筒/标准C口，透射、反射、偏光、暗场，四孔转换器，双层移动平台，调焦粗、微动同轴调焦；透射照明和落射照明，12V30W AC85V-230V亮度可调，拍摄图片上加定倍标尺，图片可加文字功能，图像与标尺及文字合成并保存。
XJ-58C科研级明暗场正置金相显微镜
XJ-58C科研级明暗场正置金相显微镜配有电动调焦的载物台、落射照明器、无限远明暗场长距平场物镜和大视野目镜的顶级配置。具有外形厚实，图像清晰度高、操作方便等特点，同时配有暗场装置及偏光装置，可实现暗场和偏光观察，是一款多功能工业检测显微镜。适用于薄片试样的金相、矿相、晶体、硅片、电路基板、FPD等结构分析和研究，或用于观察材料表面特性，如：划痕、裂纹、喷涂的均匀性等分析研究。是金属学、矿物学、精密工程学、电子学、半导体工业、硅片制造业、电子信息产业等观察研究的理想仪器。
TMG-500正置透反射硅片检测金相显微镜
TMG-500透反射（双色）正置金相显微镜配置透反射照明系统,长距平场消色差物镜（无盖玻片）、大视野,目镜和内置偏光观 察装置,光学系统成像清晰,视野广阔,适用于工矿企业,高等院校及科研等机构作材料内部组织结构观察。