完善的LIBRA® 200与国家Zui先进的像差校正的平台相结合，提供强大的新的原子级成像和分析能力。
极大地提高了分辨率和化学敏感性现在获得发展，如材料科学，软物质，生命科学，半导体和纳米技术等领域的下一代应用。
LIBRA® 200 CS - TEM提高了点分辨率的显微镜，限制其信息纳入物镜成像校正：
点分辨率<80pm @ 200kv
80千伏和200千伏之间的操作
原子分辨率的80千伏
Delocalisation免费成像
LIBRA® 200 CS，照明系统的像差校正使干模式分埃决议：
分辨率<0.1 ??nm的200kV
探头目前十倍以上的标准（裸眼）系统，从而提高了信号与噪声和显着增强的化学敏感性
在不牺牲探头尺寸（分辨率），与单色相结合的高级能量分辨率
这两种仪器可配备一个dispersionfree静电提供能量的单色
分辨率<0.15 eV和进一步改善了该仪器的信息限制。
卡尔蔡司（纳米技术系统部）提供完整的尖端的显微镜和分析仪器，包括：FE -中小型企业，多用途和扩展的压力，中小型企业，能源过滤TEMS，横梁® FIB / SEM工作站，和决议记录设置氦离子显微镜 - 半导体，材料分析和生命科学行业提供解决方案。有了这个广泛的产品组合，卡尔蔡司国税厅提供一站式解决方案成像 - 包括三维体积渲染和重建 - 测试，表征，操作，过程控制和故障分析。
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