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　　名称非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度丈量涡流方式

　　尺度编号 GB4957-85

　　摘要

　　本标准规定了应用涡流仪器无损测量非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度的办法。 该方式实用于测量大多数阳极氧化覆盖层的厚度，但不适用于测量所有薄的转化膜。

　　本标准等效采用国际标准ISO2360一1982《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度的涡流测量方 法》。

　　1原理

　　涡流测厚仪的测头装置所发生的高频电磁场，使置于测头下面的导体产生涡流，其振幅和相位是导体与测头之间的非导电笼罩层厚度的函数。

　　2影响测量精度的因素

　　2．1覆盖层厚度 该方法存在着固有的测量误差，对于薄的覆盖层，该误差是一常数，与覆盖层厚度无关，单次测量，其尽对误差至少为0．5微米。覆盖层厚度大于25微米时，其误差与覆盖层厚度近似成正比。 若测量5微米或5微米以下的覆盖层厚度时，应取几个读数的均匀值。 测量3微米以下的覆盖层厚度，可能达不到第5章中所规定的精度请求。

　　2．2基体金属电性质 基体金属的电导率对测量有影响，而基体金属的电导率与其材料成分及热处置方法有关。电导率 的影响与仪器的制作和类型有很大关系o

　　2．３基体金属厚度 每一种仪器都有一个基体金属的临界厚度。大于这个厚度，测量就不受基体金属厚度的影响。基 体金属临界厚度与测头装置的测量频率及基体金属电导率有关。假如仪器制作厂未供给这个临界厚度值，则应通过试验断定。 一般，对一给定的测量频率，基体金属电导率越高，临界厚度就越小；当基体金属电导率不变时，测量频率越高，临界厚度越小。

　　2．4边缘效应 涡流测厚仪对试样表面外形的陡变敏感。因此在靠近试样边缘或内转角处进行测量是不可靠的，除非仪器对此作了专门的校准o

　　2．5曲率 试样的曲率对测量有影响。曲率的影响与仪器的制作和类型有关，但这种影响总是随着曲率半径的减小显明地增大。因此在曲折试样的表面上测量是不可靠的，除非仪器对此作了专门的校准。

　　金属覆盖层 覆盖层厚度丈量 阳极溶解库仑法 GB/T4955-1997

　　1范畴

　　本标准规定了测量单层和多层金属覆盖层厚度的阳极溶解库仑法。表 l列举了典范的金属覆盖层和基体的组合。用现行的电解液(见附录B)测试其他组合，或为其他组合开发的新电解液而对其进行测试，都必须验证对全部系统的适应性。 本方法适用于测量各种方法得到的覆盖层厚度，包含测量多层系统，如 Cu／Ni／Cr(见8．6)，以及合金覆盖层和合金化的扩散层的厚度。本方法不仅可测量平口试样的覆盖层厚度，而且可测量圆柱形和线 材的覆盖层厚度。

　　2引用标准

　　下列标准所包括的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均 为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨应用下列标准Zui新版本的可能性。

　　金属和氧化物覆盖层 横断面厚度显微镜测量方法 GB6462-86

　　本标准具体阐明了应用金相显微镜对金属镀层、氧化 物覆盖层的局部厚度作横断面显微测量的方法。本标准还可以测量釉瓷或搪瓷覆盖层的局部厚度及测量薄的厚度，及金相显微镜进行测量，其尽对精度可到达0.8微米。本方法可作为金属 镀层、氧化层厚度测量 的仲裁方法。

　　本标准等效采用国际标准ISO1463-1982《金属和氧化 物覆盖层横断面厚度显微镜测量方法》。

　　1方法概述

　　从待测件上指定的地位切割一块试样，镶嵌后，对横断面进行恰当的研磨、抛光和浸蚀。 用校订 过的标尺测量覆盖层横断面的厚度。

　　2影响测量精度的因素

　　2．1表面粗糙度 若覆盖层或覆盖层的基体表面是粗糙的，则与覆盖层横断面接触的—条或两条界面线也是不规矩的，以致不能准确测量[见附录A (弥补件)中A．4]。

　　2．2横断面的斜度 横断面必需垂直于待测覆盖层，若有偏差，则测得的厚度将大于真实厚度。如垂直偏差10，则测量值比真实厚度大1.5%。

　　2．3笼罩层变形 镶嵌试样和制备横断面的进程中，过高的温度和压力将使软的或低熔点的覆盖层产生变形。在制备脆性资料横断面时。过度的打磨也同样会发生变形。

　　2．4覆盖层边沿倒角 制备试样时，不准确的镶嵌、研磨、抛光和侵蚀都会引起覆盖层横断面的边缘倒角，或者不平整。 采取显微镜测量则得不到真实厚度．因此在镶嵌之前，试样常耍附加镀层。这样可使边沿倒角减至Zui小。

　　2．5附加镀层 在制备横断面时为了维护覆盖层的边沿．以避免测量误差，常应在试样上附加镀层。附加镀层前，应注意不要破坏待测量的镀层并避免因除油、酸洗或形成合金而使镀层减薄。

　　2．6浸蚀 恰当的浸蚀能在金属的界面线上产生暗细而清楚的界面线，过度的浸蚀会使界面线不清楚或线条变宽，使测量产生误差。

　　金属覆盖层横断面厚度扫描电镜测量办法 JB/T7503-94

　　本标准参照采取ISO9220-1988（E）《金属覆盖层-覆盖层厚度测定-扫描电镜显微镜方法》。

　　本标准规定了金属覆盖层横截面厚度扫描电镜测量方法的技巧请求。适用于测量横截面中微米级到毫米级的金属覆盖层厚度。

　　2引用标准

　　GB6462金属和氧化物覆盖层横截面厚度显微镜测量方法 GB12334金属和其他无机覆盖层关于厚度测量的定义和一般规矩

　　3术语

　　局部厚度 见GB12334。

　　4测定原理 从待测件上指定部位垂直于覆盖层切割块试样，经过镶嵌、研磨、抛光和浸蚀制成横截面金相试样，应用扫描电镜对它进行测定。 在察看屏上用显微图像微标尺测定传统的显徽图像，也可用映相放大机测定胶片(负片)或直接测定放大的相片(正片)。

　　5仪器

　　5．1扫描电子显微镜(SEM) 其辨别率即是或优于 10nm。

　　5．2金属标准微刻度尺 用金属标准微刻度尺校订 SEM的放大倍数，或校订显微图像微标尺，金属标准微刻度尺的放大误差小于3％。

　　6影响厚度测定正确度的因素

　　6．1表面粗糙度：见GB6462中2．1条。

　　6．2试样横截面的斜度：见GB6462中2．2条。

　　6．3试样放置斜度：试样横截面的不准确放置导致相对电子束的任何斜度都可能引起不准确的测定成果。

　　金属覆盖层厚度轮廓尺寸测量方法 GB11378-89

　　本标准等效采用国际标准ISO4518-1980《金属覆盖层厚度轮廓尺寸测量方法》。

　　本标准规定了测量金属覆盖层厚度的轮廓尺寸方法。适用于测量从0.01~1000微米厚度的金属覆盖层厚度，尤其合适测量薄覆盖层厚度；当厚度小于0.01微米时，则对工件表面的平直度、平滑度请求很高，测量厚度较艰苦。本方法适用于制备覆盖层厚度标准块的厚度测量。

　　2引用尺度

　　GB6061轮廓法测量表面粗糙度的仪器

　　术语 GB6062轮廓法触针式表面粗糙度测量仪 轮廓记载仪及中线制轮廓计 GB4955金属笼罩层厚度丈量 阳极溶解库仑方式 3原理 通过溶解一部分覆盖层或者先掩蔽—部分基体再镀覆，使基体与覆盖层形成了一个台阶，再用轮廓记载仪测量台阶高度。此高度即为金属覆盖层厚度o

　　4测试仪器 下列两种类型的轮廓记载仪都可应用。

　　4．1电子触针式仪器， 即表面剖析仪和表面轮廓仪，通常用于测量表面粗糙度，但本标准是用它记载台阶的轮廓。

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　　名称 金属覆盖层厚度测量X射线光谱方法

　　尺度编号 GB/T16921-1997

　　摘要

　　本标准规定了测量金属覆盖层厚度的X射线光谱方法。本标准规定的方法是一种非接触式无损测厚方法，可同时测量一些三层系统。本标准所用测量方法基础属于测定单位面积质量的一种方法。假如已知覆盖层材料的密度，则测量成果也可以用覆盖层的线性厚度表现。覆盖层材料的实际测厚规模重要取决于允许的测量不断定度。而且因所用仪器装备及操作条件而不同。常用金属覆盖层资料的典范测量范畴见附录A（标准的附录）。

　　2定义 本标准采取下列定义。

　　2．1 X射线荧光(XRF) 高能进射x射线照耀到材料上产生的二次辐射。此二次辐射具有该材料的波长和能量特点。 2．2荧光辐射强度 由仪器测量的用每秒计数(辐射脉冲)表现的辐射强度。

　　2．3 回一化强度(Ⅰn) 经过回一化处置的荧光辐射强度。 回一化强度与测量仪器、测量时光、激发辐射强度无关。但测量体系的几何构造和激发辐射能量影 响归—化计数率。

　　2．4饱和厚度 在必定条件下，材料的荧光辐射强度不再随材料的厚度的增添而发生可检测变更的Zui小厚度。 注1：饱和厚度取决于荧光辐射的能量或波长，资料的密度和原子序数，以及进射角、荧光辐射与材料表面的关系。

　　2．5中间覆盖层 位于表面覆盖层和基体材料之间，厚度应小于其每层各自的饱和厚度的覆盖层。 注2：在测量中，厚度超过饱和厚度的中间覆盖层都可视为真正的基体。

　　离子镀硬膜厚度实验办法 球磨法 JB/T7707-95 1重要内容与实用范畴 本标准规定了离子镀硬膜厚度的球磨实验方法。 本标准实用于由 PVD和CVD方法制成的各种硬膜，也可用于氧化膜和电镀层厚度的实验。

　　2球磨法原理和膜厚盘算 球磨法属断面察看法，它通过一个添加适量研磨膏的旋转钢球，在试件表面研磨出一个作视察和测量用的球面凹坑。钢球与膜层表面及基体的接触部分是两个同心圆，


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