在
光学显微镜下无法看清小于0.2?m的细微
构造，这些
结构称为亚显微结构（submicroscopic structures）或超微构造（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清这些构造，就必需选择波长更短的
光源，以进步
显微镜的分辩率。1932年Ruska发现了以电子束为
光源的透射
电子显微镜（transmission electron microscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。目前TEM的辨别力可达0.2nm。
电子显微镜（图2-12）与光学
显微镜的成像原理基础一样，
工业显微镜价格，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。这种切片须要用超薄切片机（ultramicrotome）制造。电子显微镜的放大倍数Zui高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像体系、真空体系、记载系统、电源体系等5部分构成
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