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皮博迪，马萨诸塞州，2011年2月7日，卡尔蔡司公司今天宣布，它已获得了2260万美元的合同，开发一定的纳米制造，其革命性的ORION™气田离子源（GFIS）技术为基础的成像应用。该合同被授予总部设在美国的卡尔蔡司国税厅，LLC情报高级研究计划活动（IARPA）根据电路分析工具（CAT）的计划。

CAT方案是着眼于解决在纳米制造和成像的挑战与电路分析，现有的技术到22nm节点及以后有没有明确的进化路径。纳米制造的CAT方案的重点是集中在集成电路通过使用精确的沉积和去除技术，可以减少和/或创建新的连接电气行为的修改。

“卡尔蔡司国税厅有限责任公司总裁IARPA已明确确定了关键的分析仪器的发展在纳米结构的设计和加工的快速进步却没有跟上步伐的关键挑战，麦吉说：”丹，。 “卡尔蔡司”带电粒子束技术的领导者和创新者的地位，肯定了此批出合约，我们期待着解决这些IARPA的挑战和全球纳米制造业大。“

从卡尔蔡司GFIS技术提供了在现有的Zui先进的国家在会议上先进的纳米制造要求的显着效益。高亮度，惰性离子种类分纳米探针提供的能力来执行的准确，精确和控制在非常小的特点，在高密度组件（分10纳米）的编辑。低侧束扩散将导致更紧，更好地确定存款的几何形状。此外，卡尔蔡司“的独特GFIS技术使无残留的金属污染，相对于传统的GA - FIB技术优越的纳米图形的保真度。

这份合同是由赖特帕特森空军基地的美国空军研究实验室，赞助和管理。

关于GFIS技术

气场离子源（GFIS）技术，使用了惰性气体，如氦离子，而不是通常用扫描电子显微镜（SEM），产生Seite 2和模式的超高分辨率图像和纳米结构的电子扫描束。光束是由原子锐利尖端和探测的结果，令人难以置信的高亮度（> 5X109 A/cm2-sr 30KeV）和极低的能量分布（<1EV），可以集中到一个非常小的点（<0.35纳米）。独特的氦离子束与样品相互作用动力学，使在不同领域的纳米技术，材料和生物科学，纳米加工应用。猎户座氦离子显微镜从卡尔蔡司是第一个商业化产品的基础上GFIS技术，正被广泛用于各种应用在工业界和学术界的许多研究实验室。